Američki istraživači dizajnirali masku koja u roku sat vremena može uništiti viruse
Istraživači s Univerziteta Kalifornija u Davisu u SAD-u, dizajnirali su novu masku za lice čija je baza materijal koji može uništiti do 99,99 posto bakterija, virusa i drugih patogena u roku od sat od izlaganja dnevnom svjetlu.
Istraživači su naglasili da se ova maska od posebnog pamuka može prati 10 puta te da se neprekidno može izlagati sunčevoj svjetlosti najmanje sedmicu. To neće pogoršati njenu antimikrobnu aktivnost.
Studija je objavljena u časopisu ACS Applied Materials and Interfaces.
Metodologija
Istraživači su namjeravali dizajnirati novi pamučni materijal koji bi oslobađao raekativne vrste kisika (ROS) kada je izložena dnevnoj svjetlosti, ubijajući mikrobe pričvršćene na površini materijala. Bitno je bilo da je istovremeno periv kako bi se mogao ponovo koristiti i biti siguran za korisnika.
Tako su antimikrobni materijal pričvrstili pozitivno nabijenim lancima 2-dietil aminoetil hlorida (DEAE-Cl) na obični pamuk.
Oni su modifikovani pamuk potopili u rastvor negativno naelektrisanog fotosenzibilatora - jedinjena koje oslobađa ROS nakon izlaganja svjetlosti, a koji se snažnim elektrostatičkim interakcijama prikačio na lanac DEAE.
Shodno tome, istraživači su primijetili da ljudi mogu dezinfikovati svoju platnenu masku tokom ručka vani na suncu ili provodeći duži vremenski period na svjetlosti u kancelarijama ili u stanu gdje je manje intenzivna ona sunčeva.
Rezultati
Tim istraživača je primijetio da je fotosenzibilator uništio 99,9999 posto bakterija na materijalu u roku od sat vremena od izlaganja dnevnom svjetlu te je inaktivirao 99,9999 posto T7 bakteriofaga - virusa za koji se smatra da je otporniji na ROS od nekih virusa korona - u roku od pola sata.
“Materijal pruža obećavajuće rezultate u izradi višekratnih, antibakterijskih ili antivirusnih platnenih maski za lice i zaštitnih odijela”, rekli su istraživači, a piše Business line.
Pratite nas na našoj Facebook i Instagram stranici i Twitter nalogu.
